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Harald Rose:

Low Pressure Plasmas and Microstructuring Technology - neues Buch

ISBN: 9783540858492

Over the last forty years, plasma supported processes have attracted ever - creasing interest, and now, all modern semiconductor devices undergo at least one plasma-involved processing st… Mehr…

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Details zum Buch
Low Pressure Plasmas and Microstructuring Technology
Autor:
Titel:
ISBN-Nummer:

9783540858492

Detailangaben zum Buch - Low Pressure Plasmas and Microstructuring Technology


EAN (ISBN-13): 9783540858492
Erscheinungsjahr: 2009
Herausgeber: Springer-Verlag GmbH
732 Seiten
Sprache: eng/Englisch

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ISBN/EAN: 9783540858492

ISBN - alternative Schreibweisen:
978-3-540-85849-2
Alternative Schreibweisen und verwandte Suchbegriffe:
Autor des Buches: gerhard franz, harald
Titel des Buches: low

Daten vom Verlag:

Autor/in: Gerhard Franz
Titel: Low Pressure Plasmas and Microstructuring Technology
Verlag: Springer; Springer Berlin
732 Seiten
Erscheinungsjahr: 2009-04-09
Berlin; Heidelberg; DE
Sprache: Englisch
213,99 € (DE)
220,00 € (AT)
236,00 CHF (CH)
Available
XXIV, 732 p. 422 illus.

EA; E107; eBook; Nonbooks, PBS / Technik/Maschinenbau, Fertigungstechnik; Technische Anwendung von elektronischen, magnetischen, optischen Materialien; Verstehen; Cross section; Diagnostics; Discharges; Etching; Ion Beam; Microelectronics; Nanoelectronics; Nanoimprint; Sputtering; collision; B; Optical Materials; Electronics and Microelectronics, Instrumentation; Surfaces, Interfaces and Thin Film; Atomic and Molecular Structure and Properties; Chemistry and Materials Science; Elektronik; Materialwissenschaft; Kernphysik; BC

Collisions and cross sections.- The plasma.- DC discharges.- High-frequency discharges I.- High-frequency discharges II.- High-frequency discharges III.- Ion beam systems.- Plasma diagnostics.- Plasma deposition processes.- Plasma etch processes.- Etch Mechanisms.- Outlook.- Advanced Topics.
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